Методы формирования нанослоев

Слайд 2

Рост кристаллов

Физические основы:
Науки о равновесии в среде или межфазном равновесии
Термодинамика
Статистическая физика
Кинетика
Эффект равновесия

Рост кристаллов Физические основы: Науки о равновесии в среде или межфазном равновесии
– давления пара над кристаллом
Кинетический эффект – рост кристалла из пара

Слайд 3

Механизмы роста

Механизмы роста

Слайд 4

Наличие поверхностного натяжения всегда приводит к появлению активационного барьера для зародышеобразования конденсированной

Наличие поверхностного натяжения всегда приводит к появлению активационного барьера для зародышеобразования конденсированной
фазы (и твердой, и жидкой)

Наличие поверхностного натяжения всегда приводит к появлению активационного барьера для зародышеобразования конденсированной фазы (и твердой, и жидкой)

Изменение свободной энергии на единицу объема

Изменение свободной энергии на единицу площади
(γ – коэф-т поверхностного натяжения)

- перенасыщение

Ω – объем на атом

Для получения малого размера зародыша и быстрого зародышеобразования нужно высокое перенасыщение

Слайд 5

Типы процессов роста материалов на подложках

(a) Frank-Van der Merwe или послойный рост,
(b)

Типы процессов роста материалов на подложках (a) Frank-Van der Merwe или послойный
Ступенчатый рост,
(c) Stranski-Krastanov рост,
(d) Volmer-Weber рост.

Слайд 6

Эпитаксиальная деформация

Период решетки Ge на 4% больше, чем у Si.
При связывании Ge

Эпитаксиальная деформация Период решетки Ge на 4% больше, чем у Si. При
к Si решетка Ge сжимается на 4%

λ – модуль упругости
Δa - вынужденное изменение периода решетки
a - начальный период решетки
A - площадь
t - толщина

дислокация

Слайд 7

Эпитаксия в молекулярных пучках Molecular Beam Epitaxy (MBE)

Эффузионная ячейка (испускание)

Клапан

Вафля

Блок разогрева подложки

Эпитаксия в молекулярных пучках Molecular Beam Epitaxy (MBE) Эффузионная ячейка (испускание) Клапан Вафля Блок разогрева подложки

Слайд 8

Осаждение импульсным лазером Pulsed Laser Deposition (PLD)

Осаждение импульсным лазером Pulsed Laser Deposition (PLD)
Имя файла: Методы-формирования-нанослоев.pptx
Количество просмотров: 37
Количество скачиваний: 0