ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПЛАЗМЕННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ

ОПРЕДЕЛЕНИЕ ПЛАЗМЫ.
ПЛАЗМА – частично или полностью ионизированное состояние вещества, при котором система содержит свободные положительные (ионы) и отрицательные (электроны) заряженные частицы, концентрации которых в среднем практически одинаковы.

КЛАССИФИКАЦИЯ ПЛАЗМЫ
ПЛАЗМА бывает
равновесной и неравновесной, высоко и низкотемпературной, изотермической и неизотермической,
идеальной и неидеальной,

Схема сильноточного ускорителя ТОНУС:
1—генератор импульсных напряжений; 2 — коммутатор;
3 — делитель напряжения; 4 — маслонаполненная двойная формирующая линия; 5 — зарядная индуктивность; 6 — диодный узел; 7 -— соленоид; 8 — камера дрейфа пучка; 9 — цилиндр Фарадея;
10 — шунт обратного тока пушки

ЦЕЛИ И ЗАДАЧИ ТЕХНОЛОГИИ
ТЕХНОЛОГИЯ
изучает методы и процессы переработки сырья в предметы потребления и средства производства.

ЦЕЛИ И ЗАДАЧИ ТЕХНОЛОГИИ
Задачей технологии является проектирование и выбор условий, схем и типов производственных процессов и необходимых операций, а также создание конструкций установок и выбор материалов для приборов и машин, необходимых для реализации технологического процесса.

К вопросу о диамагнетизме плазмы

Схема магнетронной распылительной системы с плоской мишенью:

Схема магнетронной распылительной системы с плоской мишенью:
1 — катод-мишень;
2 — магнитная система;
3 — источник питания;
4 — анод;
5 — траектория движения электрона;
6 —- зона распыления;
7— силовая линия магнитного поля