Курс “САПР в микроэлектронике”

Содержание

Слайд 2

ВВЕДЕНИЕ (2-2)

Содержание курса (темы и вопросы к экзамену)

По смыслу данный курс предполагает,

ВВЕДЕНИЕ (2-2) Содержание курса (темы и вопросы к экзамену) По смыслу данный
наряду с представлениями о САПР в микроэлектронике, практический выход – умение применять САПР для решения расчетных задач. Поэтому на практических занятиях (ПР в расписании) мы будем рассматривать примеры таких решений, а для получения практических навыков убедительно рекомендуется выполнение домашних заданий в среде САПР OrCAD, которую можно установить на домашнем компьютере.

Слайд 3

ТЕМА 1. Элементная компонентная база (ЭКБ) микроэлектроники (1-5)

Компоненты ИС делятся на пассивные

ТЕМА 1. Элементная компонентная база (ЭКБ) микроэлектроники (1-5) Компоненты ИС делятся на
и активные, способные усиливать входные сигналы по мощности.
https://ru.wikipedia.org/wiki/%D0%AD%D0%BB%D0%B5%D0%BA%D1%82%D1%80%D0%BE%D0%BD%D0%BD%D1%8B%D0%B5_%D0%BA%D0%BE%D0%BC%D0%BF%D0%BE%D0%BD%D0%B5%D0%BD%D1%82%D1%8B
Общее свойства компонентов (или приборов) в традиционных ИС: 1. они не преобразуют вид энергии, входные и выходные сигналы – электрические токи и напряжения; 2. не являются полностью независимыми из-за влияния связей в общем кристалле.

Программируемая логическая ИС (ПЛИС, FPGA).
Миним. размеры компонентов на кристалле могут быть меньше 10 нм (1 нм = 10-9 м ). Степень интеграции (число транзисторов на кристалле) может быть больше 107-109.

Слайд 4

ТЕМА 1. Элементная компонентная база (ЭКБ) микроэлектроники (2-5)

Особенности интегральных компонентов:
А. Планарное расположение

ТЕМА 1. Элементная компонентная база (ЭКБ) микроэлектроники (2-5) Особенности интегральных компонентов: А.
выводов
Б. Соединения в схемах слоями металла или поликремния
В. Сильное взаимное влияние, особенно на высоких частотах
и необходимость изоляции (типовое решение-изоляция с помощью обратно-смещенных pn-переходов, диодов)
Г. Необходимость защиты от пробоя компонентов, подключаемых к внешним выводам кристалла

ИС без корпуса (А, Б)

Фрагмент кристалла ИС в разрезе (В)

(Г)

Слайд 5

ТЕМА 1. Элементная компонентная база (ЭКБ) микроэлектроники (3-5)

Диод (при U12 разных знаков)

ТЕМА 1. Элементная компонентная база (ЭКБ) микроэлектроники (3-5) Диод (при U12 разных

Биполярный npn транзистор (БТ, BT)

Резистор

Конденсатор (при
U12 = U1 - U2<0 – диод закрыт)

Вольт-амперная характеристика pn-перехода (диода): запертый диод – не разрыв!

Транзисторы со структурой металл-окисел-полупроводник (МОП,MOS) с n- и p-каналом

Третий способ изоляции компонентов на кристалле: технология кремний на изоляторе (КНИ, SOI)

Слайд 6

ТЕМА 1. Элементная компонентная база (ЭКБ) микроэлектроники (4-5)

Другие критерии классификации ЭКБ:
Быстродействие (полоса

ТЕМА 1. Элементная компонентная база (ЭКБ) микроэлектроники (4-5) Другие критерии классификации ЭКБ:
рабочих частот)
Мощность/напряжение питания
Приведенный ко входу уровень шума

Примеры применения ЭКБ:
a) Аналоговые устройства: ОУ

Другие устройства: компараторы, фильтры,
логарифмические усилители, устройства выборки/
хранения,…

Б) Цифровые устройства: инвертор

Другие устройства: логические элементы, триггеры, п/п память, процессоры,…

В) Смешанные устройства: АЦП/ЦАП

Задачи, решаемые проектировщиками с использованием САПР:
Построение, отладка и оптимизация схемы
Разработка топологии
Пересчет схемы с учетом паразитных параметров топологии
Разработка печатной платы

Методы и средства решения:
Регулирование размеров и режимов работы транзисторов в схеме
Анализ и оптимизация/устранение критичных по быстродействию трактов
Многопараметрические и автоматизированные расчеты
Анализ влияния температуры, напряжения питания и технологических разбросов

Слайд 7

ТЕМА 1. Элементная компонентная база (ЭКБ) микроэлектроники (5-5)

ВОПРОСЫ:
Какие из зарубежных фирм являются

ТЕМА 1. Элементная компонентная база (ЭКБ) микроэлектроники (5-5) ВОПРОСЫ: Какие из зарубежных
лидерами в субмикронных технологиях изготовления ИС?
https://en.wikipedia.org/wiki/Semiconductor_device_fabrication
2. Что ограничивает дальнейшее масштабирование технологий (снижение размеров компонентов на кристалле)?
https://ru.wikipedia.org/wiki/%D0%97%D0%B0%D0%BA%D0%BE%D0%BD_%D0%BC%D0%B0%D1%81%D1%88%D1%82%D0%B0%D0%B1%D0%B8%D1%80%D0%BE%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%B8%D1%8F_%D0%94%D0%B5%D0%BD%D0%BD%D0%B0%D1%80%D0%B4%D0%B0
3. Дайте корректный перевод техническим терминам, используемым на слайдах: well, bond pad, substrate, breakdown, oxide.
4. Какие эквивалентные схемы используются для учета паразитных параметров корпусов ИС?
http://citeseerx.ist.psu.edu/viewdoc/download?doi=10.1.1.116.8655&rep=rep1&type=pdf Electrical Analysis of IC Packaging with Emphasis on Different Ball Grid Array Packages
5. Что означают сокращения: русские - СБИС, СнК, КНИ/КНС, английские - BT, CMOS, SOI, ADC/DAC ?
6. По каким причинам вместо встроенных (интегральных) компонентов могут использоваться внешние (навесные, дискретные) элементы (резисторы, конденсаторы, индуктивности, диоды, транзисторы) ?

Слайд 8

ТЕМА 2. Разновидности ИС по функциям, степени интеграции, типу используемых активных элементов

ТЕМА 2. Разновидности ИС по функциям, степени интеграции, типу используемых активных элементов
и способам проектирования


Состав активных элементов/технология изготовления ИС:
МОП транзисторы/КМОП (CMOS) технология
Биполярные транзисторы/биполярная технология
Биполярные и МОП транзисторы/смешанная БиКМОП (BiCMOS) технология
Большая часть транзисторов на кристалле (до 90% и более) – МОП. Большая часть используемых технологий – объемные КМОП технологии, которые позволяют строить системы на кристалле.

Способы проектирования, поддерживаемые САПР, должны быть адаптированы для разных по функциональному назначению блоков, а для сложных и составных ИС их реализация должна отличаться высокой вычислительной эффективностью при сохранении высокой точности (достоверности) результатов расчетов. Эффективность зависит от используемых в САПР алгоритмов, поддержки автоматизированных и параллельных вычислений. Точность зависит от поддержки моделей субмикронных транзисторов и заданных пользователем параметров
алгоритмов (чем больше точность, тем больше время расчетов).

Слайд 9

ТЕМА 2. Разновидности ИС по функциям, степени интеграции, типу используемых активных элементов

ТЕМА 2. Разновидности ИС по функциям, степени интеграции, типу используемых активных элементов
и способам проектирования

https://ru.wikipedia.org/wiki/%D0%A1%D0%B8%D1%81%D1%82%D0%B5%D0%BC%D0%B0_%D0%BD%D0%B0_%D0%BA%D1%80%D0%B8%D1%81%D1%82%D0%B0%D0%BB%D0%BB%D0%B5

ИС типа система-на-кристалле

Пример логической организации

Пример физической организации

Аналоговые устройства обрабатывают аналоговые сигналы, обычно не дискретизированные по амплитуде и времени. Описываются множеством параметров (показателей качества) и часто требуют заказного проектирования для получения наилучших результатов.
Цифровые устройства обрабатывают цифровые сигналы, дискретизированные по амплитуде и времени. Описываются ограниченным числом показателей (задержки, фронты и срезы) и могут быть спроектированы полностью в автоматическом режиме (от выполняемой функции до принципиальной схемы и топологии).
Смешанный устройства занимают промежуточное положение.

Слайд 10

ТЕМА 2. Разновидности ИС по функциям, степени интеграции, типу используемых активных элементов

ТЕМА 2. Разновидности ИС по функциям, степени интеграции, типу используемых активных элементов
и способам проектирования

Пример представления и результаты расчетов операционных усилителей (ОУ) при проектировании в САПР OrCAD

А. Идеализированный ОУ

Б. Стандартный ОУ фирмы Analog Devices

В. Интегральный ОУ по технологии КМОП 0,25 мкм

Схема включения – повторитель напряжения. Во всех случаях эта функция реализуется,
но хуже всего – в случае Б (прецизионный ОУ ADL1702 с частотой единичного усиления 1,5 МГц)

out1

out3

out2

Имя файла: Курс-“САПР-в-микроэлектронике”.pptx
Количество просмотров: 41
Количество скачиваний: 0