Содержание
- 3. Конструкции испарителей
- 4. Интенсивность испарения материала из расплава оценивают с помощью уравнения Герца − Кнудсена: где Ne − число
- 5. Транспортировка пара от испарителя к подложке Плотность потока пара будет описываться выражением: где Ф(α) − плотность
- 7. Осаждение (конденсация) испаряемого вещества на поверхности подложки. 1. Зарождение зерен Островковый режим или режим Фольмера-Вебера реализуется
- 11. Скачать презентацию
Слайд 3Конструкции испарителей
Конструкции испарителей
Слайд 4Интенсивность испарения материала из расплава
оценивают с помощью уравнения Герца − Кнудсена:
где Ne
Интенсивность испарения материала из расплава
оценивают с помощью уравнения Герца − Кнудсена:
где Ne
m − молекулярная (атомная) масса;
KT − постоянная Больцмана KT =1,38·10-23 Дж/К=8,62 ·10-5 эВ/К;
Т − температура поверхности источника К;
pe − равновесное давление пара испаряемого вещества Па.
1 мм рт ст = 133 Па = 1 Торр Для ТВН 10-2Торр = 1,33 Па
Скорость потери массы источником на единице площади:
где М − масса грамм моля испаряемого вещества, pe − давление пара [Па]
При фиксированной температуре, скорость испарения не может превышать некоторое значение, определяемое формулой Герца-Кнутсена, вне зависимости от количества подводимого тепла, что говорит о необходимости соблюдения теплового баланса.
Дешман табулировал R для Ре
[молекул/(см2с)]
[г/(см2с)]
Слайд 5Транспортировка пара от испарителя к подложке
Плотность потока пара будет описываться выражением:
где Ф(α)
Транспортировка пара от испарителя к подложке
Плотность потока пара будет описываться выражением:
где Ф(α)
Зависимость толщины напыляемой пленки d от расстояния от центра подложки L для испарителя малой площади (испаритель, у которого размеры поверхности испарения малы по сравнению с расстоянием от этой поверхности до подложки), расположенного на расстоянии h от подложки, будет определяться как:
Для точечного испарителя:
где ρ − плотность напыляемого материала; Me − масса испаренного вещества.
Относительная толщина пленки от центра подложки d0 к толщине пленки d на удалении L от центра:
− для испарителя с малой площадью
− для точечного испарителя.
Слайд 7Осаждение (конденсация) испаряемого вещества на поверхности подложки.
1. Зарождение зерен
Островковый режим или режим
Осаждение (конденсация) испаряемого вещества на поверхности подложки.
1. Зарождение зерен
Островковый режим или режим
Послойный режим или режим Франка-Ван дер Мерве реализуется в противоположном случае, когда атомы осаждаемого вещества связаны с подложкой более сильно, чем друг с другом. Моноатомные слои заполняются в этом режиме по очереди, т.е. двумерные зародыши (толщиной в один атом) следующего слоя образуются на верхней части зародышей предыдущего слоя после его заполнения.
В промежуточном режиме, или режиме Странского-Крастанова, вначале реализуется послойный рост, затем, после заполнения одного - двух слоев начинается островковый режим роста.
2. Рост зерен Вокруг образовавшихся зерен начинают расти пространственные островки. В зависимости от температуры подложки они могут быть жидкими каплями или монокристаллами. Температура плавления островков на 2/3 меньше температуры плавления объемного материала.
3. Объединение островков.
При пограничном контакте за счет разрушения границы и выделения при этом тепла островки расплавляются, а после слияния охлаждаются, образуя новый монокристалл. На монокристаллической подложке ориентация большинства островков повторяет ориентацию подложки.
4. Заполнение каналов. Для каждой пары конденсат−подложка при заданной скорости осаждения существует критическая температура подложки, выше которой происходит рост кристаллически ориентированной пленки независимо от степени несовершенства исходного кристалла.