Развитие методов и создание оборудования для синтеза и диагностики полупроводниковых наногетероструктурПчеляков О.П.Новосиб
- Главная
- Разное
- Развитие методов и создание оборудования для синтеза и диагностики полупроводниковых наногетероструктурПчеляков О.П.Новосиб
Содержание
- 2. Начало развитию технологии молекулярно-лучевой эптаксии в ИФП СО РАН положили два человека, роль которых невозможно переоценить:
- 3. Оборудование для молекулярной эпитаксии в ИФП СО РАН Катунь Si-Ge-GaAs Катунь A3-B5 Ангара-1984 Катунь Si-Ge МАВР-1979
- 4. Из наиболее важного аналитического оборудования, разработанного и произведенного в ИФП СО РАН, можно выделить следующее: Система
- 5. 24.02.09 ИФП СО РАН Автоматизированная компактная сверхвысоковакуумная установка нового поколения для молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых многослойных гетеросистем
- 6. 24.02.09 ИФП СО РАН Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур
- 7. 24.02.09 ИФП СО РАН Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур на основе соединений А3В5,
- 8. Размещение установок «Ангара» и «Катунь» 1982-2009 г.г. 4 – камерные – 2 шт. * 8 камер
- 9. ПРИГЛАШЁННЫЕ ДОКЛАДЫ в 2008 году О.П. Пчеляков. Разработка научных основ молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых наноструктур, технологии и
- 11. Скачать презентацию
Слайд 2Начало развитию технологии молекулярно-лучевой эптаксии в ИФП СО РАН положили два человека,
Начало развитию технологии молекулярно-лучевой эптаксии в ИФП СО РАН положили два человека,
Слайд 3Оборудование для молекулярной эпитаксии в ИФП СО РАН
Катунь Si-Ge-GaAs
Катунь A3-B5
Ангара-1984
Катунь Si-Ge
МАВР-1979
1999
1991
1989
Оборудование для молекулярной эпитаксии в ИФП СО РАН
Катунь Si-Ge-GaAs
Катунь A3-B5
Ангара-1984
Катунь Si-Ge
МАВР-1979
1999
1991
1989
Слайд 4Из наиболее важного аналитического оборудования, разработанного и произведенного в ИФП СО РАН,
Из наиболее важного аналитического оборудования, разработанного и произведенного в ИФП СО РАН,
Система дифракции быстрых электронов на отражение (ДБЭО), позволяющая контролировать структуру и кристаллическое совершенство растущих слоев, а также оценивать скорости роста и состав отдельных слоев.
Эллипсометр для измерения толщин и оптических свойств эпитаксиальных структур, контроля состава и шероховатости пленок, а также температуру подложки непосредственно в процессе роста.
Поляризационный пирометр оригинальной конструкции для бесконтактного контроля температуры ростового процесса.
В течение (1987 – 2009) годов в ИФП СО РАН было изготовлено 39 систем МЛЭ различной конфигурации, в том числе 89 сверхвысоковакуумных камер, более 100 дифрактометров и лазерных эллипсометров.
На изготовленных в институте установках МЛЭ «Катунь», выращиваются гетероструктуры полупроводниковых соединений А3В5, а также А4В4 и А2В6 для создания диодов Ганна миллиметрового диапазона (28 Ггц), монолитных интегральных схем, матричных инфракрасных фотоприемников на квантовых ямах GaAs – AlGaAs, GaAs – InGaAs – GaAs, для мощных СВЧ-транзисторов (диапазон 2–18 Ггц), лазеров с вертикальным резонатором, кремниевых полевых транзисторов с Ge нанокластерами в канале, фотоприемников ИК-диапазона на базе HgCdTe и GeSi/Si, для фотопреобразователей и для многих других полупроводниковых приборов.
Слайд 524.02.09
ИФП СО РАН
Автоматизированная
компактная
сверхвысоковакуумная
установка нового поколения для молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых
24.02.09
ИФП СО РАН
Автоматизированная
компактная
сверхвысоковакуумная
установка нового поколения для молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых
многослойных гетеросистем и наноструктур «Катунь 100»
Установка в зависимости от направлений её использования может состоять из нескольких специализированных вакуумных камер: камеры загрузки-выгрузки пластин-подложек с кассетной загрузкой (2 кассеты по 7 пластин диаметром 102 мм); камеры эпитаксиального роста элементарных полупроводников и их твёрдых растворов (Si,Ge), металлических, диэлектрических слоев снабжаются электронно-лучевыми испарителями, газовыми и плазменными источниками молекулярных пучков; камеры для выращивания полупроводниковых соединений А3В5, A3N и А2В6 могут содержать до 12 молекулярных источников, в том числе вентильного типа для сурьмы, фосфора и мышьяка.
Слайд 624.02.09
ИФП СО РАН
Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур
24.02.09
ИФП СО РАН
Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур
Слайд 724.02.09
ИФП СО РАН
Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур на основе
24.02.09
ИФП СО РАН
Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур на основе
Слайд 8Размещение установок «Ангара» и «Катунь»
1982-2009 г.г.
4 – камерные – 2 шт.
Размещение установок «Ангара» и «Катунь»
1982-2009 г.г.
4 – камерные – 2 шт.
3 – камерные – 17 шт. * 51 камера
2 – камерные – 6 шт. * 12 камер
1 – камерные – 14 шт. * 14 камер
ИТОГО 39 установок 85 камер
Слайд 9ПРИГЛАШЁННЫЕ ДОКЛАДЫ в 2008 году
О.П. Пчеляков. Разработка научных основ молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых
ПРИГЛАШЁННЫЕ ДОКЛАДЫ в 2008 году
О.П. Пчеляков. Разработка научных основ молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых
О.П. Пчеляков. Проблемы производства наногетероструктур в условиях орбитального полета. Совещание "Проблемы реализации экспериментов по МЛЭ на космическом аппарате "ОКА-Т" Новосибирск, Академгородок, Институт физики полупроводников СО РАН. 19 марта 2008.
O.P. Pchelyakov. Molecular Beam Epitaxy of ordered Ge-Si Nanostructures for Applications in Photovoltaic. 3rd Joint China-Russia Workshop on Advanced Semiconductor Materials and Devices, Bejing, China. 26-30 April 2008.
О.П. Пчеляков. Технологические, экономические и экологические аспекты производства наногетероструктур в условиях орбитального полета. Российский национальный форум «Промышленные технологии для России» Ассоциация ФПГ России, Экспоцентр «Крокус» г. Москва 21 мая 2008.
О.П. Пчеляков. Перспективы производства наногетероструктур в условиях орбитального полета. Международный семинар «Организация наноструктурных исследований в Казахстане и развитие нанотехнологий в рамках международных проектов» Астана, Казахстан, 9 июля 2008 г.
О.П. Пчеляков, А.И. Никифоров, Л.В.Соколов. Программа реализации экспериментов на космической установке МЛЭ в сверхглубоком вакууме на обслуживаемом в инфраструктуре МКС автоматическом КА «ОКА-Т». Семинар «Концепции развития космических средств технологического назначения». ЦНИИмаш, г. Королёв октябрь 2008.
О.П. Пчеляков, Ю.Б. Болховитянов, Соединения III-V-на-Si: современное состояние исследований и разработок. Международное совещание. «Перспективы полупроводникового материаловедения» Москва. 2008.
О.П. Пчеляков. Применение наногетероструктур Ge-Si в фотовольтаике. Международный семинар «Перспективные направления развития нанотехнологий в рамках специальной экономической зоны «Парк информационных технологий» Физико-технический институт, СЭЗ ПИТ, Алматы. Казахстан. 10 июля 2009 г.
O.P. Pchelyakov. MBE of Ge-Si Nanostructures for Photovoltaic Indo-Russian Seminar on "Problems of nanoscience and technology" National Physical Laboratory, New Delhi, India 11 – 15 November 2008.