Развитие методов и создание оборудования для синтеза и диагностики полупроводниковых наногетероструктурПчеляков О.П.Новосиб
- Главная
- Разное
- Развитие методов и создание оборудования для синтеза и диагностики полупроводниковых наногетероструктурПчеляков О.П.Новосиб
Содержание
- 2. Начало развитию технологии молекулярно-лучевой эптаксии в ИФП СО РАН положили два человека, роль которых невозможно переоценить:
- 3. Оборудование для молекулярной эпитаксии в ИФП СО РАН Катунь Si-Ge-GaAs Катунь A3-B5 Ангара-1984 Катунь Si-Ge МАВР-1979
- 4. Из наиболее важного аналитического оборудования, разработанного и произведенного в ИФП СО РАН, можно выделить следующее: Система
- 5. 24.02.09 ИФП СО РАН Автоматизированная компактная сверхвысоковакуумная установка нового поколения для молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых многослойных гетеросистем
- 6. 24.02.09 ИФП СО РАН Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур
- 7. 24.02.09 ИФП СО РАН Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур на основе соединений А3В5,
- 8. Размещение установок «Ангара» и «Катунь» 1982-2009 г.г. 4 – камерные – 2 шт. * 8 камер
- 9. ПРИГЛАШЁННЫЕ ДОКЛАДЫ в 2008 году О.П. Пчеляков. Разработка научных основ молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых наноструктур, технологии и
- 11. Скачать презентацию
Слайд 2Начало развитию технологии молекулярно-лучевой эптаксии в ИФП СО РАН положили два человека,
Начало развитию технологии молекулярно-лучевой эптаксии в ИФП СО РАН положили два человека,
![Начало развитию технологии молекулярно-лучевой эптаксии в ИФП СО РАН положили два человека,](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/438302/slide-1.jpg)
Слайд 3Оборудование для молекулярной эпитаксии в ИФП СО РАН
Катунь Si-Ge-GaAs
Катунь A3-B5
Ангара-1984
Катунь Si-Ge
МАВР-1979
1999
1991
1989
Оборудование для молекулярной эпитаксии в ИФП СО РАН
Катунь Si-Ge-GaAs
Катунь A3-B5
Ангара-1984
Катунь Si-Ge
МАВР-1979
1999
1991
1989
![Оборудование для молекулярной эпитаксии в ИФП СО РАН Катунь Si-Ge-GaAs Катунь A3-B5](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/438302/slide-2.jpg)
Слайд 4Из наиболее важного аналитического оборудования, разработанного и произведенного в ИФП СО РАН,
Из наиболее важного аналитического оборудования, разработанного и произведенного в ИФП СО РАН,
![Из наиболее важного аналитического оборудования, разработанного и произведенного в ИФП СО РАН,](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/438302/slide-3.jpg)
Система дифракции быстрых электронов на отражение (ДБЭО), позволяющая контролировать структуру и кристаллическое совершенство растущих слоев, а также оценивать скорости роста и состав отдельных слоев.
Эллипсометр для измерения толщин и оптических свойств эпитаксиальных структур, контроля состава и шероховатости пленок, а также температуру подложки непосредственно в процессе роста.
Поляризационный пирометр оригинальной конструкции для бесконтактного контроля температуры ростового процесса.
В течение (1987 – 2009) годов в ИФП СО РАН было изготовлено 39 систем МЛЭ различной конфигурации, в том числе 89 сверхвысоковакуумных камер, более 100 дифрактометров и лазерных эллипсометров.
На изготовленных в институте установках МЛЭ «Катунь», выращиваются гетероструктуры полупроводниковых соединений А3В5, а также А4В4 и А2В6 для создания диодов Ганна миллиметрового диапазона (28 Ггц), монолитных интегральных схем, матричных инфракрасных фотоприемников на квантовых ямах GaAs – AlGaAs, GaAs – InGaAs – GaAs, для мощных СВЧ-транзисторов (диапазон 2–18 Ггц), лазеров с вертикальным резонатором, кремниевых полевых транзисторов с Ge нанокластерами в канале, фотоприемников ИК-диапазона на базе HgCdTe и GeSi/Si, для фотопреобразователей и для многих других полупроводниковых приборов.
Слайд 524.02.09
ИФП СО РАН
Автоматизированная
компактная
сверхвысоковакуумная
установка нового поколения для молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых
24.02.09
ИФП СО РАН
Автоматизированная
компактная
сверхвысоковакуумная
установка нового поколения для молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых
![24.02.09 ИФП СО РАН Автоматизированная компактная сверхвысоковакуумная установка нового поколения для молекулярно-лучевой](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/438302/slide-4.jpg)
многослойных гетеросистем и наноструктур «Катунь 100»
Установка в зависимости от направлений её использования может состоять из нескольких специализированных вакуумных камер: камеры загрузки-выгрузки пластин-подложек с кассетной загрузкой (2 кассеты по 7 пластин диаметром 102 мм); камеры эпитаксиального роста элементарных полупроводников и их твёрдых растворов (Si,Ge), металлических, диэлектрических слоев снабжаются электронно-лучевыми испарителями, газовыми и плазменными источниками молекулярных пучков; камеры для выращивания полупроводниковых соединений А3В5, A3N и А2В6 могут содержать до 12 молекулярных источников, в том числе вентильного типа для сурьмы, фосфора и мышьяка.
Слайд 624.02.09
ИФП СО РАН
Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур
24.02.09
ИФП СО РАН
Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур
![24.02.09 ИФП СО РАН Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/438302/slide-5.jpg)
Слайд 724.02.09
ИФП СО РАН
Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур на основе
24.02.09
ИФП СО РАН
Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур на основе
![24.02.09 ИФП СО РАН Двухкамерный вариант установки «Катунь 100» для выращивания наногетероструктур](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/438302/slide-6.jpg)
Слайд 8Размещение установок «Ангара» и «Катунь»
1982-2009 г.г.
4 – камерные – 2 шт.
Размещение установок «Ангара» и «Катунь»
1982-2009 г.г.
4 – камерные – 2 шт.
![Размещение установок «Ангара» и «Катунь» 1982-2009 г.г. 4 – камерные – 2](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/438302/slide-7.jpg)
3 – камерные – 17 шт. * 51 камера
2 – камерные – 6 шт. * 12 камер
1 – камерные – 14 шт. * 14 камер
ИТОГО 39 установок 85 камер
Слайд 9ПРИГЛАШЁННЫЕ ДОКЛАДЫ в 2008 году
О.П. Пчеляков. Разработка научных основ молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых
ПРИГЛАШЁННЫЕ ДОКЛАДЫ в 2008 году
О.П. Пчеляков. Разработка научных основ молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых
![ПРИГЛАШЁННЫЕ ДОКЛАДЫ в 2008 году О.П. Пчеляков. Разработка научных основ молекулярно-лучевой эпитаксии](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/438302/slide-8.jpg)
О.П. Пчеляков. Проблемы производства наногетероструктур в условиях орбитального полета. Совещание "Проблемы реализации экспериментов по МЛЭ на космическом аппарате "ОКА-Т" Новосибирск, Академгородок, Институт физики полупроводников СО РАН. 19 марта 2008.
O.P. Pchelyakov. Molecular Beam Epitaxy of ordered Ge-Si Nanostructures for Applications in Photovoltaic. 3rd Joint China-Russia Workshop on Advanced Semiconductor Materials and Devices, Bejing, China. 26-30 April 2008.
О.П. Пчеляков. Технологические, экономические и экологические аспекты производства наногетероструктур в условиях орбитального полета. Российский национальный форум «Промышленные технологии для России» Ассоциация ФПГ России, Экспоцентр «Крокус» г. Москва 21 мая 2008.
О.П. Пчеляков. Перспективы производства наногетероструктур в условиях орбитального полета. Международный семинар «Организация наноструктурных исследований в Казахстане и развитие нанотехнологий в рамках международных проектов» Астана, Казахстан, 9 июля 2008 г.
О.П. Пчеляков, А.И. Никифоров, Л.В.Соколов. Программа реализации экспериментов на космической установке МЛЭ в сверхглубоком вакууме на обслуживаемом в инфраструктуре МКС автоматическом КА «ОКА-Т». Семинар «Концепции развития космических средств технологического назначения». ЦНИИмаш, г. Королёв октябрь 2008.
О.П. Пчеляков, Ю.Б. Болховитянов, Соединения III-V-на-Si: современное состояние исследований и разработок. Международное совещание. «Перспективы полупроводникового материаловедения» Москва. 2008.
О.П. Пчеляков. Применение наногетероструктур Ge-Si в фотовольтаике. Международный семинар «Перспективные направления развития нанотехнологий в рамках специальной экономической зоны «Парк информационных технологий» Физико-технический институт, СЭЗ ПИТ, Алматы. Казахстан. 10 июля 2009 г.
O.P. Pchelyakov. MBE of Ge-Si Nanostructures for Photovoltaic Indo-Russian Seminar on "Problems of nanoscience and technology" National Physical Laboratory, New Delhi, India 11 – 15 November 2008.