TCAD моделирование характеристик кремниевых и кремний-германиевых биполярных транзисторов с учетом радиационных эффектов

Содержание

Слайд 2

Актуальность

Для проектирования схем спец. применений, в существующие промышленные САПР встраиваются специальные подсистемы

Актуальность Для проектирования схем спец. применений, в существующие промышленные САПР встраиваются специальные
САПР: RHCAD – Radiation-Hardened CAD, реализующие специальные, более «жёсткие» методы проектирования.
Важное место в номенклатуре ЭКБ занимают радиационно-стойкие высокочастотные Si и SiGe БИС, изготовленные по биполярной технологии

Слайд 3

Современное состояние проблемы для Si БТ и SiGe ГБТ

Sentaurus Synopsys

Silvaco TCAD

Современное состояние проблемы для Si БТ и SiGe ГБТ Sentaurus Synopsys Silvaco

Механизм учета ионизационных эффектов

1. Механизм учета ионизационных эффектов

2. Механизм учета структурных эффектов

Слайд 4

Модели основных физических эффектов системы Synopsys Sentaurus

Модели основных физических эффектов системы Synopsys Sentaurus

Слайд 5

Взаимодействие гамма-квантов с атомами п/п

S

Nit

Qox

Ионизационные эффекты

Основные деградирующие параметры

Положительный заряд в оксиде

Концентрация ловушек

Взаимодействие гамма-квантов с атомами п/п S Nit Qox Ионизационные эффекты Основные деградирующие
на границе Si-SiO2

Скорость поверхностной рекомбинации

Математическая модель Si БТ и SiGe ГБТ, учитывающая влияние гамма-излучения

Слайд 6

Математическая модель Si БТ и SiGe ГБТ, учитывающая влияние гамма-излучения

Преимущества
по сравнению с

Математическая модель Si БТ и SiGe ГБТ, учитывающая влияние гамма-излучения Преимущества по
ранее существующими TCAD-моделями: учтены два эффекта, которые ранее не учитывались, что существенно повысило точность моделирования.

Предложены и реализованы в системе TCAD модели, связывающие концентрацию радиационно-индуцированных ловушек Nit = f1(Dγ) и скорость поверхностной рекомбинации на границе Si/SiO2 S = f2(Dγ) с дозой гамма-излучения

SiGe ГБТ 7HP

Слайд 7

Модель, учитывающая влияние гамма-излучения в структурах Si БТ и SiGe ГБТ,

Наиболее

Модель, учитывающая влияние гамма-излучения в структурах Si БТ и SiGe ГБТ, Наиболее
чувствительные области

Зависимости Nit и S от дозы

 

 

 

 

Концентрация ловушек и скорость поверхностной рекомбинации на границе с Si-SiO2:

S. L. Kosier, R. D. Shrimpf, D. M. Fleetwood at el. Charge separation for bipolar transistors. TNS.

S. Put, E. Simoen, at el., “Effect of Airgap Deep Trench Isolation on the Gamma Radiation Behavior of a 0.13 um SiGe:C NPN HBT Technology”

Слайд 8

Результаты моделирования влияния гамма-излучения в системе TCAD

ВАХ 0,13 мкм SiGe ГБТ 8WL

Результаты моделирования влияния гамма-излучения в системе TCAD ВАХ 0,13 мкм SiGe ГБТ
с параметрами: β = 250, fT = 100 ГГц, fmax = 200 ГГц

2D распределение скорости рекомбинации

1D распределение скорости рекомбинации

2D распределение объемного заряда

Погрешность моделирования статических ВАХ 10-15%

Слайд 9

τ

II. Математическая модель Si БТ и SiGe ГБТ, учитывающая влияние нейтронного излучения

μ

N

Образование

τ II. Математическая модель Si БТ и SiGe ГБТ, учитывающая влияние нейтронного
разупорядоченных областей

1. Время жизни носителей заряда

2. Концентрация неравновесных носителей заряда

3. Подвижность неравновесных носителей заряда

Слайд 10

II. Математическая модель Si БТ и SiGe ГБТ, учитывающая влияние нейтронного излучения

Зависимость

II. Математическая модель Si БТ и SiGe ГБТ, учитывающая влияние нейтронного излучения
времени жизни носителей заряда от потока нейтронов включена в систему TCAD впервые:
Предложена улучшенная модель для коэффициента радиационного изменения времени жизни Kτ, учитывающая уровень инжекции и концентрацию легирующей примеси, что особенно важно для современных Si БТ и SiGe ГБТ с высоким уровнем легирования базы

Слайд 11

Для n-типа материала:
Для p-типа материала:

II. Математическая модель Si БТ и SiGe ГБТ,

Для n-типа материала: Для p-типа материала: II. Математическая модель Si БТ и
учитывающая влияние нейтронного излучения

– Модель Грегори

– Улучшенная модель

Улучшенная модель*:

*Разработана Э.Н. Вологдиным
и Д.С. Смирновым (ОАО “НПП “Пульсар”)

Слайд 12

II. Результаты расчетов по модели, учитывающей влияние нейтронного излучения в структурах Si

II. Результаты расчетов по модели, учитывающей влияние нейтронного излучения в структурах Si
БТ и SiGe ГБТ

Структура 0,13 мкм SiGe ГБТ 8WL с β = 250, fT = 100 ГГц, fmax = 200 ГГц

Фактор повреждения:

Граничная fT и максимальная fmax частота

Частоты fT и fmax слабо зависят от флюенса нейтронов

Коэффициент усиления по току сильно уменьшается

Слайд 13

III. Модель, учитывающая влияние протонного излучения на структуры Si БТ и SiGe

III. Модель, учитывающая влияние протонного излучения на структуры Si БТ и SiGe
ГБТ

Факторы повреждения

Ионизационные эффекты
S(Dγ) , Qox(Dγ), Nit(Dγ)

Для моделирования протонного излучения используются модели для нейтронного и гамма-излучений

Структурные дефекты
τn(Фn), τp(Фn)

+

Слайд 14

III. Модель, учитывающая влияние протонного излучения на структуры Si БТ и SiGe

III. Модель, учитывающая влияние протонного излучения на структуры Si БТ и SiGe
ГБТ

В системе TCAD впервые учитывается воздействие протонного излучения
Предложен подход, учитывающий совместное влияние ионизационных и структурных эффектов на электрофизические и электрические характеристики Si и SiGe биполярных структур при воздействии протонного излучения в Sentaurus Synopsys

Слайд 15

III. Модель, учитывающая влияние протонного излучения на структуры Si БТ и SiGe

III. Модель, учитывающая влияние протонного излучения на структуры Si БТ и SiGe
ГБТ

Используется комбинация моделей для нейтронного и гамма-излучений.
Определяется поток нейтронов и поглощенная доза гамма-излучения, которые эквивалентны по своему воздействию протонному излучению:

 

 

Эквивалентного потока нейтронов

Эквивалентная поглощенная доза гамма-излучения

Слайд 16

III. Расчет характеристик с помощью модели, учитывающей влияние протонного излучения на Si

III. Расчет характеристик с помощью модели, учитывающей влияние протонного излучения на Si
БТ и SiGe ГБТ

ΔJb = Jb(D) - Jb(0)

для Uбэ = 0,7 В

Добавка радиационно-индуцированного тока базы

Модель дает расхождение экспериментальных и смоделированных ВАХ не более 10-20%

180 нм SiGe ГБТ 7HP с параметрами: We = 0,18 мкм, β = 250, fT = 120 ГГц, fmax = 100 ГГц

Слайд 17

,

1) Разработаны приборно-технологические модели для расчета электрофизических и электрических характеристик Si

, 1) Разработаны приборно-технологические модели для расчета электрофизических и электрических характеристик Si
БТ и SiGe ГБТ с учетом влияния нейтронного, протонного и гамма-излучений.
2) Модели включены в промышленную систему приборно-технологического моделирования Sentaurus Synopsys. Разработана методика настройки параметров моделей по результатам физических экспериментов.
Модели обеспечивают достаточную точность (10-25%) описания характеристик элементов для Si БТ и SiGe ГБТ с размерами вплоть до субмикронных (до 0,1 мкм) в диапазоне радиационных доз до 107 рад и потоков до 1016 см−2.
Разработанные радиационные модели для расчета Si БТ и SiGe ГБТ, изготовленных по различным отечественным и зарубежным технологиям, позволяют расширить возможности существующих приборно-технологических симуляторов, распространив их на расчет элементов радиационно-стойких Si и SiGe биполярных БИС.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ: основные результаты работы

Слайд 18

Спасибо за внимание!

Спасибо за внимание!

Слайд 19

Результаты измерения SiGe ГБТ SGB25V до и после облучения

Результаты измерения SiGe ГБТ SGB25V до и после облучения