среда, и к его свободной поверхности на расстояние S ~ 2¸3А подведено металлическое острие, заканчивающееся одним атомом. При приложении разности потенциалов V » 0,1 ¸ 1В между образцом и острием в цепи появится ток, обусловленный туннельным эффектом. Вероятность туннелирования в квазиклассическом приближении по порядку величины
Одномерная модель протекания туннельного тока [2]. Предположим, что образец – сплошная электропроводящая среда, и к его свободной поверхности на расстояние S ~ 2¸3А подведено металлическое острие, заканчивающееся одним атомом. При приложении разности потенциалов V » 0,1 ¸ 1В между образцом и острием в цепи появится ток, обусловленный туннельным эффектом. Вероятность туннелирования в квазиклассическом приближении по порядку величины
[2] В.С.Эдельман. Сканирующая туннельная микроскопия (обзор). Приборы и техника эксперимента (ПТЭ), 1989, №5, стр. 25-49.
где характерная работа выхода ~5 эВ, m » 10-27 г – масса электрона проводимости. Учитывая экспоненциальную зависимость T(S), для оценки туннельного тока I будем считать, что он целиком проходит через самый кончик острия, т. е. площадь туннельного контакта A » 10-16 см2. Приняв плотность электронов проводимости r » 1022 см-3/В и их скорость v » 108 см/с, получим оценку туннельного тока
т.е. вполне измеримую величину. Видно, что при увеличении зазора ток экспоненциально уменьшается примерно на порядок на каждый ангстрем перемещения острия по нормали к образцу.
Шарипов Камиль. Казанский клуб нанотехнологий.