Электрохимическое осаждение благородных металлов

Содержание

Слайд 2

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

Слайд 3

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

1) масса выделившегося вещества прямо пропорциональна количеству электричества, прошедшего через

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018 1) масса выделившегося вещества прямо пропорциональна количеству электричества,
электролит;
2) массы различных веществ, осажденных на электроде или удаленных вследствие их растворения при прохождении через электролит такого же количества электричества, прямо пропорциональны химическим эквивалентам этих веществ.

W = IEt/F

Основные законы, описывающие электролиз Законы Фарадея

Объединенный закон электролиза математически можно представить в виде:

W – масса осажденного вещества [г] I – ток [A] E – химический эквивалент вещества [г] t – время процесса [c] F – число Фарадея

Слайд 4

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

возможно осаждение очень однородных пленок без утолщений по краям и

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018 возможно осаждение очень однородных пленок без утолщений по
на выпуклых участках подложки;
получаемые пленки обладают меньшей пористостью, чем электроосажденные пленки;
возможно осаждение пленок на непроводящие подложки после предварительной обработки, придающей их поверхности каталитическую активность

Достоинства

Слайд 5

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

Электрохимическое осаждение металлов согласно современным представлениям происходит в четыре стадии:
электролитическая

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018 Электрохимическое осаждение металлов согласно современным представлениям происходит в
диссоциация соли в растворе;
перенос ионов из объема электролита к электроду;
переход ионов на границе фаз из объема электролита к металлу;
диффузия адсорбированных атомов по поверхности электрода к местам роста пленки и встраивание атомов в кристаллическую решетку.

Слайд 6

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

 

Процессы, обуславливающие перенос ионов:
Протекание в электролите конвекционных токов
Дрейф под действием

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018 Процессы, обуславливающие перенос ионов: Протекание в электролите конвекционных
приложенного электрического поля
Диффузия, связанная с наличием градиента концентрации ионов

Слайд 7

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

Параметры процесса осаждения, влияющие на условия роста и свойства получаемых

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018 Параметры процесса осаждения, влияющие на условия роста и
пленок:

Плотность тока
Характеристики электролитической ванны
Значение pH
Температура ванны
Форма электрода
Встречный электрод
Перемешивание электролита

Особенности процесса роста (а) и зависимость состава пленок, получаемых методом электроосаждния от температуры и плотности тока при различной продолжительности процесса (б)

Слайд 8

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

Факторы, оказывающие вторичное влияние на осаждение металлов

Зародышеобразование
- трехмерные - двумерные - одномерные
Формы

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018 Факторы, оказывающие вторичное влияние на осаждение металлов Зародышеобразование
роста покрытия (феноменологическая картина роста Фишера):
- FI (выделение с ориентацией на поле) - BR (воспроизведение с ориентацией на основу-подложку)
- Z (переход с помощью двойникования)
- FT (текстура с ориентацией на поле)
- UD (рассеяния без ориентации)

Слайд 9

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

Попутное выделение водорода

υн= υ1+ υ2 = υно +υ3 + υ4 + υ5
где υ1 — скорость

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018 Попутное выделение водорода υн= υ1+ υ2 = υно
подвода ионов Н+;
υ2 — скорость подвода Н20 и кислот;
υно — скорость изменения рН перед электродом;
υ3 — скорость образования молекулярного водорода Н2;
υ4 — скорость внедрения водорода в металл;
υ5 — скорость образования других соединений с участием водорода

Н2 ↔ 2Н + 2е-
Н2 + 2ОН-  ↔ 2Н2О + 2е-

Слайд 10

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

В табл. приведены типичные параметры процесса осаждения ряда благородных металлов

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018 В табл. приведены типичные параметры процесса осаждения ряда благородных металлов

Слайд 11

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

Слайд 12

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

Слайд 13

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018

Области применения

Серебрение:
- Электропромышленность (для создания высокой электропроводимости поверхностного слоя металлических

МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018 Области применения Серебрение: - Электропромышленность (для создания высокой
и керамических изделий - Защитно-декоративная отделка (бытового назначения и в ювелирной промышленности (полируются или оксидируются (состаренное серебро).
Золочение:
- ювелирная промышленность - часовая индустрия - производство точных приборов (разновесы аналитических весов и лабораторные приборы)
Осаждение платины: - для покрытия нерастворимых титановых, танталовых электродов
- зеркала
Осаждение палладия:
- зеркала высокой отражательной способности
- электротехническая промышленность (контакты с неизменной электропроводимостью)
- покрытия повышенной износостойкости и коррозионной стойкости
Имя файла: Электрохимическое-осаждение-благородных-металлов.pptx
Количество просмотров: 19
Количество скачиваний: 0