Классификация методов осаждения вакуумных покрытий

ИСПАРЕНИЕ АТОМОВ МЕТАЛЛА

В настоящее время эта технология широко используется при получении покрытий алюминия, меди, кадмия, цинка и других металлов, имеющих относительно низкую температуру испарения.
Технология получения покрытий резистивным испарением характеризуется следующими основными достоинствами:
1) возможность нанесения покрытий из металлов, диэлектриков, полупроводников;
2) технология реализуется с помощью относительно простых устройств;
3) возможность осаждения покрытий с высокой скоростью и ее регулирования в широких пределах;

Данная технология имеет следующие недостатки:
высокая инерционность процесса испарения;
2) трудность управления потоком атомов;
3) низкая ионизация атомов в потоке и, как следствие этого, невысокая адгезия и сплошность осаждаемых покрытий;
4) трудность, а в ряде случаев невозможность получения покрытий из тугоплавких металлов.