Нанесение тонких пленок из жидких растворов прекурсоров

Методы получения пленок
- Физические (PVD — Physical Vapor Deposition)
- Газофазные химические (CVD — Chemical Vapor Deposition)
- Химические (CD — Chemical Deposition)

- Приготовление раствора прекурсоров
- Нанесение раствора прекурсоров
- Низкотемпературная обработка
- Высокотемпературная обработка
Основные стадии процесса

- Достаточная растворимость прекурсоров в растворителе
- Раствор прекурсоров должен оставаться гомогенным в течение
всех технологических стадий
- Хорошая смачивающая способность раствора по отношению к материалу подложки
- При химическом взаимодействии прекурсоров все побочные
продукты реакций должны уходить в газовую фазу
- При высушивании и высокотемпературной обработке пленка не должна растрескиваться
Требуемые условия для качественной пленки

Пленки
Из коллоидных растворов
Из истинных растворов
Толщина пленки
>
Склонность к
растрескиванию пленки
>
Повторение формы
детали
<