Альтернативный способ азотирования для упрочнения поверхностного слоя в металлообрабатывающей промышленности

Содержание

Слайд 2

PulsPlasma®Азотирование
альтернативный способ азотирования для упрочнения поверхностного слоя в металлообрабатывающей промышленности

PulsPlasma®Азотирование альтернативный способ азотирования для упрочнения поверхностного слоя в металлообрабатывающей промышленности

Слайд 3

PlaTeG GmbH в перспективе
Методы азотирования в перспективе
PulsPlasma® - Азотирование
Технология
Установки
Применение

Обзор

PlaTeG GmbH в перспективе Методы азотирования в перспективе PulsPlasma® - Азотирование Технология Установки Применение Обзор

Слайд 4

Сталь: защита от износа / коррозии

PulsPlasma® Азотирование Поверхностное упрочнение

PulsPlasma® CVD

Сталь: защита от износа / коррозии PulsPlasma® Азотирование Поверхностное упрочнение PulsPlasma® CVD
Нанесение твердых слоев

PulsPlasma® Оксидирование Защита от коррозии

Технология плазменной обработки от PlaTeG I

Слайд 5

Технология плазменной обработки от PlaTeG II

Плазменная полимеризация
Защита от коррозии Снижение трения Снижение загрязняемости

Плазменная

Технология плазменной обработки от PlaTeG II Плазменная полимеризация Защита от коррозии Снижение
активация и очистка Смачиваемость Улучшение поверхности перед окраской Улучшение поверхности перед склеиванием

Металлическая / пластиковая
поверхность

Слайд 6

DIN EN 10052
Азотирование
Термохимический способ обработки поверхности для обогащения поверхности деталей азотом

Карбонитрирование
Термохимический способ

DIN EN 10052 Азотирование Термохимический способ обработки поверхности для обогащения поверхности деталей
обработки поверхности для одновременного обогащения поверхности деталей азотом и углеродом

Определение азотирования

Слайд 7

Цель обработки:
Образование FeXNY – Связующий слой (VS)
Диффузия азота – Диффузионный слой

Цель обработки: Образование FeXNY – Связующий слой (VS) Диффузия азота – Диффузионный
(Nht)

Азотирование / Карбонитрирование

Слайд 8

Азотирование / Карбонитрирование

Применение азотирования

Азотирование / Карбонитрирование Применение азотирования

Слайд 9

Озор методов азотирования

Озор методов азотирования

Слайд 10

Химико-термический метод термической обработки -> термическая диссоциация Азота -> химико-термическое активное

Химико-термический метод термической обработки -> термическая диссоциация Азота -> химико-термическое активное образование
образование FeXNY

2 NH3 ↔ 2N (-> Fe) + 3 H2
Fe + 2N ↔ Fe2N

Азотирование / Карбонитрирование

Слайд 11

Метод термообработки, активированный плазмой -> активированная плазмой диссоциация азота N2 ->

Метод термообработки, активированный плазмой -> активированная плазмой диссоциация азота N2 -> (плазмо
(плазмо – химическое) активное образование FeXNY

N2 ↔ 2N (-> Fe) + 2 e-
Fe + 2N ↔ Fe2N

Цель: Образование FeXNY – Связующий слой (VS)
Диффузия азота – Диффузионный слой (Nht)

Плазменное
Азотирование / Карбонитрирование

Слайд 12

Что такое ПЛАЗМА?

Плазма – это электропроводящий газ!

Определение физической ПЛАЗМЫ

Что такое ПЛАЗМА? Плазма – это электропроводящий газ! Определение физической ПЛАЗМЫ

Слайд 13

Пример плазмы тлеющего разряда

Glimmentladung

Простейший пример – флюресцентная лампа освещения

Пример плазмы тлеющего разряда Glimmentladung Простейший пример – флюресцентная лампа освещения

Слайд 14

Плазменное
Азотирование / Карбонитрирование

Постоянный ток (DC)- тлеющий разряд

Плазменное Азотирование / Карбонитрирование Постоянный ток (DC)- тлеющий разряд

Слайд 15

Система газообеспечения

Воздушные охладители

Насос

Вакуумная камера

Система управления процессом

Внутренняя газовая турбина

Температура процесса

Давление процесса

Нагрев

PulsPlasma®- Генератор

N2

H2

CH4

Конструкция PulsPlasma®- установки

Система газообеспечения Воздушные охладители Насос Вакуумная камера Система управления процессом Внутренняя газовая
азотирования

Слайд 16

обогреваемые стенки камеры
? электрический нагрев стенок для нагрева садки ? мощность плазмы

обогреваемые стенки камеры ? электрический нагрев стенок для нагрева садки ? мощность
по требованию процесса ?равномерное распределение температуры

Пульсирующий постоянный ток 500 Hz – 15 kHz

Без повреждения поверхности электрической дугой
постоянная плазма
Электрическая дуга< 1 µs

PulsPlasma® установки азотирования

Конструктивные особенности:

Слайд 17

Низкий расход среды, экологичность
Гибкая температура азотирования(300 °C ....600 °C)
Простая возможность частичного азотирования
Азотирование

Низкий расход среды, экологичность Гибкая температура азотирования(300 °C ....600 °C) Простая возможность
высокохромистых сталей (получение коррозионной стойкости)
Азотирование порошковых материалов
Азотирование Ti, Al

Общие:

Слайд 18

Инструмент

Примеры PulsPlasma®Азотирования

Инструмент Примеры PulsPlasma®Азотирования

Слайд 19

компоненты коробок передач

Примеры PulsPlasma®Азотирования

компоненты коробок передач Примеры PulsPlasma®Азотирования

Слайд 20

порошковые ферросплавы

Примеры PulsPlasma®Азотирования

порошковые ферросплавы Примеры PulsPlasma®Азотирования

Слайд 21

Стали с содержанием хрома > 12 %

Примеры PulsPlasma®Азотирования

Стали с содержанием хрома > 12 % Примеры PulsPlasma®Азотирования

Слайд 22

Управление размером и формоизменением
Оптимизация конструкции и подготовки для азотирования (допуски размеров)
Подходящие

Управление размером и формоизменением Оптимизация конструкции и подготовки для азотирования (допуски размеров)
температуры обработки
Очень хорошая равномерность температуры в камере

Слайд 23

Камера с 3 зонами нагрева: низ/середина/верх

PP200 Ø 1200 x 2000 mm
Объем камеры 2400

Камера с 3 зонами нагрева: низ/середина/верх PP200 Ø 1200 x 2000 mm
л
Температура обработки 540°C
Вес садки 500 kg
max. Вес детали 60 kg
min. Вес детали 0,5 kg

Температурный режим PulsPlasma®-установки для азотирования

Слайд 24

Структура азотированного слоя управляем
Азотирование с образованием связующего слоя (образование γ‘- и ε- слоя

Структура азотированного слоя управляем Азотирование с образованием связующего слоя (образование γ‘- и
или смеси слоев управляется составом атмосферы)
Азотирование без образования связующего слоя
Влияние параметров процесса на пористость

Слайд 25

Комбинированные процессы в одной установке PulsPlasma®Азотирования с:
PulsPlasma®Оксидирование (Повышение коррозионной стойкости, улучшение гладкости)
PulsPlasma®CVD (TiC, TiN,

Комбинированные процессы в одной установке PulsPlasma®Азотирования с: PulsPlasma®Оксидирование (Повышение коррозионной стойкости, улучшение
(Ti,Al)N, DLC)

Слайд 26

Улучшение коррозионной стойкости

PulsPlasma®Азотирование + последующее оксидирование

Улучшение коррозионной стойкости PulsPlasma®Азотирование + последующее оксидирование

Слайд 27

Нанесение твердых слоев

PulsPlasma®CVD-покрытия

Нанесение твердых слоев PulsPlasma®CVD-покрытия

Слайд 28

PulsPlasma®CVD- покрытия

Нанесение твердых слоев

PulsPlasma®CVD- покрытия Нанесение твердых слоев

Слайд 29

Усложнение конструкции садки
- детали располагаются с зазором друг относительно друга

Усложнение конструкции садки - детали располагаются с зазором друг относительно друга Азотирование
Азотирование в отверстиях углублениях и узких участках ограничено

Обработка навалом не возможна

Слайд 30

PulsPlasma®-Установка азотирования – моно принцип

PulsPlasma®-Установка азотирования – моно принцип

Слайд 31

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 20 ø 400 x 800

Технические параметры:
Диаметр камеры/ полезный

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 20 ø 400 x 800 Технические параметры: Диаметр
диаметр: 400 mm / 300 mm
Высота камеры / полезная высота: 800 mm / 500 mm

Слайд 32

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 200 ø 1200 x 2200

Технические параметры:
Диаметр камеры/

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 200 ø 1200 x 2200 Технические параметры: Диаметр
полезный диаметр: 1200 mm / 1000 mm
Высота камеры / полезная высота: 2200 mm / 1700 mm

Слайд 33

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 300 ø 2700 x 2600

Технические параметры:
Диаметр камеры/

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 300 ø 2700 x 2600 Технические параметры: Диаметр
полезный диаметр: 2700 mm / 2500 mm
Высота камеры / полезная высота: 2600 mm / 2100 mm

Слайд 34

PulsPlasma®- Установка азотирования – шаттл принцип

PulsPlasma®- Установка азотирования – шаттл принцип

Слайд 35

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 200 ø 1200 x 2100

Технические параметры:
Диаметр камеры/

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 200 ø 1200 x 2100 Технические параметры: Диаметр
полезный диаметр: 1200 mm / 1000 mm
Высота камеры / полезная высота: 2100 mm / 1600 mm

Слайд 36

PulsPlasma®- Установка азотирования – тандем принцип

PulsPlasma®- Установка азотирования – тандем принцип

Слайд 37

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 120 ø 1000 x 2000

Технические параметры:
Диаметр камеры/

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 120 ø 1000 x 2000 Технические параметры: Диаметр
полезный диаметр: 1000 mm / 800 mm
Высота камеры / полезная высота: 2000 mm / 1600 mm

Слайд 38

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 300 ø 1400 x 2600

Технические параметры:
Диаметр камеры/

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 300 ø 1400 x 2600 Технические параметры: Диаметр
полезный диаметр: 1400 mm / 1200 mm
Высота камеры / полезная высота: 2600 mm / 2000 mm

Слайд 39

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 300 ø 2000 x 3200

Технические параметры:
Диаметр камеры/

PulsPlasma®_ Установка азотирования PP 300 ø 2000 x 3200 Технические параметры: Диаметр
полезный диаметр: 2000 mm / 1800 mm
Высота камеры / полезная высота: 3200 mm / 2600 mm

Слайд 40

Компактная, экономящая место конструкция - все компоненты установки на общем основании,

Компактная, экономящая место конструкция - все компоненты установки на общем основании, -
- с интегрированным устройством подъема и перемещения вакуумной камеры

Гибкая концепция установки (Модульная система) - моно-, шаттл-, тандем исполнение, - при необходимости позже можно дополнять установку

Законченный процесс и технология - комбинация PulsPlasma®Азотирования и PulsPlasma®CVD в одной установке

Передовая концепция управления - базируется на Microsoft®Windows с возможностью удаленного управления и обслуживания

PlaTeG – Установки

Особенности:

Слайд 41

PlaTeG – Установки

Современные системы нагрева и охлаждения - смонтированные непосредственно на

PlaTeG – Установки Современные системы нагрева и охлаждения - смонтированные непосредственно на
камере нагреватели, ускорение передачи тепла, снижение необходимой мощности нагрева, - нагрев независимо от отдельных контуров нагрева и охлаждения - очень низкий разброс температуры по зоне (± 5 °C)

Современные системы теплоизоляции - специальные изоляционные материалы космических технологий, - малые занимаемые площади, - снижение расхода тепла

современные PulsPlasma®Генераторы - почти прямоугольная форма импульса тока и напряжения
- пульсирующий ток достигает уже меньше чем через µs установленного значения - активная система защиты от электрической дуги (время подавления < 1 µs)

Особенности:

Слайд 42

PulsPlasma®Азотирование

Качество через изменяемый процесс

Производительность через высокую плотность загрузки

Гибкость через

PulsPlasma®Азотирование Качество через изменяемый процесс Производительность через высокую плотность загрузки Гибкость через
оптимальную концепцию установок

Эффективность через комбинацию процессов

Слайд 43

PlaTeG GmbH
Ein Unternehmen der PVA TePla Gruppe Industriestr. 13
D - 57076 Siegen Germany
Fon:

PlaTeG GmbH Ein Unternehmen der PVA TePla Gruppe Industriestr. 13 D -
+49 271 772417
Fax: +49 271 7724133
e-mail: [email protected]
Internet: www.plateg.de

Мы благодарим Вас за внимание!

Представитель в РФ и странах СНГ фирма ГАЛИКА АГ
www.galika.ru
Тел. (495) 234 60 00
Факс. (495) 954 44 16

Имя файла: Альтернативный-способ-азотирования-для-упрочнения-поверхностного-слоя-в-металлообрабатывающей-промышленности.pptx
Количество просмотров: 34
Количество скачиваний: 0